nitruro

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disoluzio moduan, nikeleztatze-prozesu elektrolitikoetan; zenbait beiraren osagai moduan (B2O3); erreakzio kimiko organikoetan, katalizatzaile moduan; eta nitruro moduan (nitruro kubikoak), ebaketa-tresnetan. como solución en procesos electrolí­ticos de niquelado, como ingrediente (B2O3) de algunos vidrios, como catalizador en reacciones quí­micas orgánicas y como nitruro (nitruro cúbico) para herramientas de corte.

Materiala: Mekanizazio, konformazio eta muntaia prozesuen gauzatzea

Oinarria silizio nitrurozkoa (Si3N4) duten zeramiken materiala oso bestelakoa da. Las cerámicas con base de nitruro de silicio (Si3N4) son de un material completamente distinto.

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Aplikazioen artean, hauek aipa daitezke: erremintetarako TiN eta TiC-ezko estaldurak, silizio nitrurozko (Si3N4) deposizioa erdieroaleen prozesatzean, eta polimeroen estaldurak. Entre sus aplicaciones se encuentran los recubrimientos de TiN y TiC para herramientas, la deposición de nitruro de silicio (Si3N4) en el procesado de semiconductores, y recubrimientos de polí­meros.

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CVD bidezko estalduretarako metal egokien artean, titanioa, banadioa, tungstenoa, molibdenoa eta tantaloa ditugu, eta bereziki egokiak dira konposatuen deposiziorako, hala nola titanio karburoaren (TiC), titanio nitruroaren (TiN), aluminio oxidoaren (Al2O3), silizio nitruroaren (Si3N4) eta silizio dioxidoaren (SiO2) deposiziorako. Los metales favorables para recubrimientos mediante CVD incluyen el titanio, el vanadio, el tungsteno, el molibdeno y el tantalio (tántalo), siendo especialmente adecuados para la deposición de compuestos, tales como el carburo de titanio (TiC), el nitruro de titanio (TiN), el óxido de aluminio (Al2O3), el nitruro de silicio (Si3N4) y el dióxido de silicio (SiO2).

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Halaber, konposatu kimikoen geruzak jalkitzeko, metalarekin oxidoak, karburoak edo nitruroak sortzen dituzten gas erreaktiboak erabiltzen dira. Las pelí­culas de compuestos quí­micos también se depositan mediante el empleo de gases reactivos que forman óxidos, carburos o nitruros con el metal.

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Aglomeratzaile zeramikoa duten CBNzko plakatxo osoek estalduraren propietate bereizgarriak ematen dizkien titanio nitrurozko (TiN) estaldura bat izaten dute. Las plaquitas enteras de CBN con aglomerante cerámico suelen incorporar un recubrimiento de nitruro de titanio (TiN) que aporta las propiedades caracterí­sticas del recubrimiento.

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Silizio nitrurozkoak, berriz, egokiak dira ebaketa-sakoneran aldaketak daudenean eta/edo ebaketak etenak direnean. Las de nitruro de silicio trabajan bien con variaciones de profundidad de corte y/o corte interrumpido.

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Fase metalikoa titanio karburoz eta titanio nitruroz osatuta dago nagusiki (% 20-40ko proportzioan), eta beste gehigarri batzuk ere erants daitezke. Hori eginez gero, aplikazio-eremua zabaldu egiten da zeramiketarako egokiak diren material eta eragiketa gehienetara. La fase metálica consiste primordialmente en carburo de titanio y nitruro de titanio, abarcando entre el 20% y el 40%, pudiendo incorporar otros aditivos, aumentando así­ su campo de aplicación en la mayoría de las operaciones y materiales adecuados para las cerámicas.

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oinarria silizio nitrurozkoa (Si3N4) duena, con base de nitruro de silicio (Si3N4).

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oinarrizko materiala titanio nitrurozkoa (TiN) dutenak, con material base de nitruro de titanio (TiN), y

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